半导体用主流金属前驱体的现况及发展
王孝进, 胡昌明, 乔玮, 王博文, 罗文娇, 鞠熀先, 黎书华, 顾金楼, 杨敏
Current status and development of mainstream metal precursors for semiconductors
Xiaojin Wang, Changming Hu, Wei Qiao, Bowen Wang, Wenjiao Luo, Huangxian Ju, Shuhua Li, Jinlou Gu, Min Yang
南京大学学报(自然科学版)
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2026, (3): 485
-504
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DOI: 10.13232/j.cnki.jnju.2026.03.014
