半导体用主流金属前驱体的现况及发展

王孝进, 胡昌明, 乔玮, 王博文, 罗文娇, 鞠熀先, 黎书华, 顾金楼, 杨敏

南京大学学报(自然科学版) ›› 2026, Vol. 62 ›› Issue (3) : 485-504.

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南京大学学报(自然科学版) ›› 2026, Vol. 62 ›› Issue (3) : 485-504. DOI: 10.13232/j.cnki.jnju.2026.03.014

半导体用主流金属前驱体的现况及发展

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Current status and development of mainstream metal precursors for semiconductors

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